キャノンアネルバ(株) L-210-L (平成8年 原取)
エッチング装置
概要
酸素ガスを用いたエッチング法により、半導体などのナノデバイス・マイクロデバイスを微細加工する装置。
物理、化学、工学、材料、無機、固体、イオン
自己測定
学内
| 設置年 | 2014 |
|---|---|
| 装置カテゴリ | |
| 適合分野 | 物理学系 |
| 管理部局 | 自然生命科学研究支援センター |
| 使用責任者 | 自然科学研究科(工) |
| 拠点 | 03. 自然生命科学研究支援センター |
共同利用について
| 利用にあたっての留意事項 | 使用希望者は、監守者の指示に従ってください。 |
|---|---|
| 費用負担 |
クリーンルーム全体で運営している。 |
| 自己測定利用法 |
監守者へ連絡し、操作方法をご相談ください。 |
| その他 |
オリジナル操作マニュアルはこちらから。(学内限定) http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/gakunai/DryEtch170721.pdf |
| 詳細情報 | http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/equipments/view/545 |
| 利用方法や利用規程 | http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/kitei_riyouyoukou.pdf |