オリンパス OLS1100F
本設備は408nm半導体レーザの使用により、高分解能で微小領域の表面形状観察・計測を,熟練者でなくとも操作およびデータ取得が可能な走査型共焦点レーザ顕微鏡と,取得した形状データを用いてモデルを構築し,トポグラフィー,応力,温度上昇等を解析するシステムである.
工学 機械 固体 表面 顕微 レーザ
設置年 | 2002 |
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装置カテゴリ | |
適合分野 | 工学系 |
管理部局 | 自然科学研究科 |
使用責任者 | 自然科学研究科(工) |
拠点 | 32. 共同利用装置ではない。 |
利用にあたっての留意事項 | 依頼測定は不可.設備管理者が常駐していないため,使用責任者の指示に従ってください. |
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費用負担 |
使用時間に応じた費用負担が必要 |